[发明专利]一种硅烷中微量杂质的去除方法有效
| 申请号： | 200910109206.7 | 申请日： | 2009-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101987730A | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | 丁显波;安荣玲;周勇;姜占锋 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/04 | 分类号： | C01B33/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518118 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅烷中微量杂质的去除方法，包括采用大孔型阳离子交换树脂，对所述大孔型阳离子交换树脂进行改性；将改性后大孔型阳离子交换树脂装填入吸附塔中，经吹扫除氧后使硅烷气体通过。本发明提供的硅烷中微量杂质去除方法显著的去除了硅烷中的B2H6、PH3和AsH3等微量组分，使各组分含量降至0.5×10-9以下，达到电子及半导体行业对高纯度硅烷的使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅烷 微量 杂质 去除 方法 | ||
【主权项】：
一种硅烷中微量杂质的去除方法，包括采用大孔型阳离子交换树脂，对所述大孔型阳离子交换树脂进行改性；将改性后大孔型阳离子交换树脂装填入吸附塔中，经吹扫除氧后，使硅烷气体通过吸附塔。
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