[发明专利]一种GaN基多量子阱超辐射发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 200910111881.3 | 申请日: | 2009-05-27 |
公开(公告)号: | CN101572288A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | 刘宝林;朱丽虹 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种GaN基多量子阱超辐射发光二极管及其制备方法,涉及一种发光二极管。提供一种出光效率和输出功率较高的GaN基多量子阱超辐射发光二极管及其制备方法。设有蓝宝石衬底,在蓝宝石衬底上外延生长多层异质结构,多层异质结构自下而上设有低温GaN缓冲层、N型GaN电极接触层、N型AlGaN/GaN超晶格光限制层、N型GaN波导层、InGaN/GaN多量子阱有源层、p型AlGaN电子阻挡层、p型GaN波导层、P型AlGaN/GaN超晶格光限制层、p型GaN层和p型InGaN/AlGaN超晶格电极接触层,在N型GaN电极接触层上设有n型电极,在p型InGaN/AlGaN超晶格电极接触层上设有p型电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 gan 基多 量子 辐射 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种GaN基多量子阱超辐射发光二极管,其特征在于设有蓝宝石衬底,在蓝宝石衬底上外延生长多层异质结构,多层异质结构自下而上设有低温GaN缓冲层、N型GaN电极接触层、N型AlGaN/GaN超晶格光限制层、N型GaN波导层、InGaN/GaN多量子阱有源层、p型AlGaN电子阻挡层、p型GaN波导层、P型AlGaN/GaN超晶格光限制层、p型GaN层和p型InGaN/AlGaN超晶格电极接触层,在N型GaN电极接触层上设有n型电极,在p型InGaN/AlGaN超晶格电极接触层上设有p型电极。
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