[发明专利]一种低纯度硅制备单晶棒的方法无效
申请号: | 200910112105.5 | 申请日: | 2009-06-19 |
公开(公告)号: | CN101660197A | 公开(公告)日: | 2010-03-03 |
发明(设计)人: | 南毅;郑智雄;张伟娜;林霞 | 申请(专利权)人: | 南安市三晶阳光电力有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 | 代理人: | 张松亭 |
地址: | 362000福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种低纯度硅制备单晶棒的方法,涉及单晶硅的制备领域。本发明的方法包括加料,抽真空,熔化,仔晶浸入,细颈,放肩,等径,冷却,取晶步骤,其特征在于:在等径过程中,在等径体长度为1~500mm时,其平均拉径速度为0.95~1.25mm/min,其上限速度为1.6mm/min,下限速度为0.30mm/min,增加热场-1.0~3.0℃;在等径体长度为600~2300mm时,其上限速度为1.30mm/min,下限速度为0.30mm/min,增加热场5~120℃。本发明整个工艺及设备提供的动态热场的纵向温度梯度较大,成晶界面较宽,使之能克服材料本身的缺陷,提高引晶成功率及单晶的有效长度,达到95%以上的成晶率。 | ||
搜索关键词: | 一种 纯度 制备 单晶棒 方法 | ||
【主权项】:
1、一种低纯度硅制备单晶棒的方法,包括加料,抽空,熔化,充氩气,仔晶浸入,细颈,放肩,等径,冷却,取晶步骤,其特征在于:在等径过程中,在等径体长度为1~500mm时,其平均拉径速度为0.95~1.25mm/min,其上限速度为1.6mm/min,下限速度为0.30mm/min,增加热场-1.0~3.0℃;在等径体长度为600~2300mm时,其上限速度为1.30mm/min,下限速度为0.30mm/min,增加热场5~120℃。
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