[发明专利]一种基于超亲-超疏水特性模板的表面图案化微加工方法无效
| 申请号： | 200910112180.1 | 申请日： | 2009-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN101603177A | 公开（公告）日： | 2009-12-16 |
| 发明（设计）人： | 林昌健;赖跃坤 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | C23F1/00 | 分类号： | C23F1/00 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种基于超亲-超疏水特性模板的表面图案化微加工方法，涉及一种超亲/超疏水特性模板。提供一种具有实用性强、操作简单、可控性强、所需设备简易，基于超亲-超疏水特性模板技术的，适用于普通实验室的基于超亲-超疏水特性模板的表面图案化微加工方法。对基底进行电化学阳极氧化，获得一层纳米有序TiO2纳米阵列结构的膜层，膜层热处理后冷却得样品，将样品浸泡在氟硅烷甲醇溶液后取出，干燥得超疏水的TiO2纳米结构阵列膜层；在膜层表面覆盖光掩模，经紫外光照射，即可在基底表面获得图案尺寸和形貌跟光掩模一致的超疏-超亲水图案，以此为模板，经酸或碱湿化学刻蚀微加工，即可制备图案尺寸和形貌跟光掩模一致的表面微-纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 疏水 特性 模板 表面 图案 加工 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于超亲-超疏水特性模板的表面图案化微加工方法，其特征在于包括以下步骤：1)将基底表面预处理：对基底进行电化学阳极氧化，在基底表面获得一层纳米有序TiO2纳米阵列结构的膜层；2)将电化学阳极氧化制备的纳米有序TiO2纳米阵列结构的膜层热处理后，冷却，制得样品，备用；3)将步骤2)得到的样品浸泡在氟硅烷甲醇溶液后取出，干燥，制得超疏水的TiO2纳米结构阵列膜层；4)在超疏水的TiO2纳米结构阵列膜层表面覆盖光掩模，经紫外光照射，即可在基底表面获得图案尺寸和形貌跟光掩模一致的超疏-超亲水图案；5)以所得的超疏-超亲水图案为模板，经酸或碱湿化学刻蚀微加工，即可制备图案尺寸和形貌跟光掩模一致的表面微-纳米结构，实现超亲-超疏水特性模板的表面图案化微加工。
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