[发明专利]一种二维正方点阵排列的准正方形纳米颗粒阵列结构的制备方法有效
| 申请号： | 200910113128.8 | 申请日： | 2009-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101774535A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 朱贤方;张瑜娟;黄娆;王连洲;逯高清;吴晨旭 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种二维正方点阵排列的准正方形纳米颗粒阵列结构的制备方法，涉及一种纳米颗粒材料。先制备单一粒径的单层纳米球亚稳态正方排列结构模板，再沉积金属，最后除去聚苯乙烯纳米球模板。在单一粒径聚苯乙烯纳米球的单层正方排列亚稳态结构的基础上，利用单一粒径的聚苯乙烯纳米球，通过控制制备过程工艺参数，制备出单层的聚苯乙烯纳米球亚稳态正方排列结构模板，使用物理气相沉积的方法沉积金属银膜，在乙醇等有机溶剂中超声除去模板，仅一步除球即得到二维正方点阵排列的准正方形纳米颗粒阵列结构，操作步骤简便、所需的设备简单、材料易得、成本低廉、结构易控。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二维 正方 点阵 排列 正方形 纳米 颗粒 阵列 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种二维正方点阵排列的准正方形纳米颗粒阵列结构的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)一个制备单一粒径的单层纳米球亚稳态正方排列结构模板的步骤；2)一个沉积金属的步骤；3)一个除去聚苯乙烯纳米球模板的步骤。
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