[发明专利]微光学器件移动数字掩模制作方法无效
| 申请号： | 200910115611.X | 申请日： | 2009-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN101587292A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | 高益庆;喻立霞;罗宁宁;陈敏;龚勇清;肖孟超;余秋香;叶青 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所 | 代理人： | 刘凌峰 |
| 地址： | 330000江西省南*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 一种微光学器件移动数字掩模制作方法，其特征是制作方法为：(1)通过移动数字掩模制作方法的掩模函数设计移动数字掩模图形；(2)根据曝光能量积累函数设定掩模图形的运动速度及时间；(3)对移动的移动数字掩模图形进行累积曝光，从而得到具有原相位分布的微光学器件。本发明的优点是：1.移动数字掩模技术实现了传统机械移动掩模技术的功能；2.克服了传统机械移动掩模外围尺寸有限导致的边框效应；3.移动数字掩模可方便地实现曝光量的控制；4.根据实际需要实时修改掩模形状和掩模的移动速度及曝光时间，操作灵活方便；5.可一次性制作均匀性很好的连续浮雕面形微光学器件及其阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 器件 移动 数字 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种微光学器件移动数字掩模制作方法，其特征是制作方法为：(1)将微光学器件的相位分布函数转换成移动数字掩模制作方法的掩模函数，通过移动数字掩模制作方法的掩模函数设计移动数字掩模图形；(2)根据曝光能量积累函数设定掩模图形的运动速度及时间；(3)通过实时掩模技术，对移动的移动数字掩模图形进行累积曝光，从而得到具有原相位分布的微光学器件。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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