[发明专利]二元光学组件横向制作方法无效
| 申请号： | 200910115895.2 | 申请日： | 2009-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN101650446A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 陈敏;高益庆;肖孟超;罗宁宁;海霞 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所 | 代理人： | 刘凌峰 |
| 地址： | 330000江西省南*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 一种二元光学组件横向制作方法，其特征是计算机在三维建模软件中设计好光学器件的三维模型，然后编程对其进行横向切片处理，并将首层传送至DMD，然后曝光光源经过准直整形镜组形成均匀平行的光线，该光线经过反射镜到DMD表面，电控位移平台联动原固化层移动一个图层厚度，曝光第二层图像，依次曝光各层图像，最终生成二元光学组件。本发明的优点是：1.不存在原纵向制作单个器件阵列，应用组件结构(子系统)时，需把单个器件阵列组装而引入的对准误差；2.排除了每固化层的变形对组件中各元件表面面型精度的影响，而这种影响在纵向切片法中是很难避免的。 | ||
| 搜索关键词： | 二元 光学 组件 横向 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种二元光学组件横向制作方法，其特征是计算机在三维建模软件中设计好光学器件的三维模型，然后编程对其进行横向切片处理，并将首层传送至DMD，然后曝光光源经过准直整形镜组形成均匀平行的光线，该光线经过反射镜到DMD表面，此时DMD中的横向切片图片的图片信息由光线传输经过精缩投影透镜成像到树脂槽内的液态光敏树脂中，并对液态光敏树脂进入曝光固化成型，固化成型后，计算机控制步进电机控制器使电控位移平台移动，电控位移平台联动原固化层移动一个图层厚度，曝光第二层图像，依次曝光各层图像，最终生成二元光学组件。
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