[发明专利]防反射涂层及其制备方法无效
| 申请号： | 200910118112.6 | 申请日： | 2009-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN101526633A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 今井宏明;中山宽之;塩川孝紳;山田和广;铃木峰太 | 申请（专利权）人： | 学校法人庆应义塾;HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B32B7/02 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程 伟;王锦阳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防反射涂层及其制备方法，所述防反射涂层包括形成在基材上或在基材上形成的致密层上的由中孔二氧化硅纳米粒子组成的中孔二氧化硅涂层，所述中孔二氧化硅涂层具有大于1.10并且小于或者等于1.35的折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种包括中孔二氧化硅涂层的防反射涂层，所述中孔二氧化硅涂层由形成在基材上的中孔二氧化硅纳米粒子组成，所述中孔二氧化硅涂层具有大于1.10并且小于或者等于1.35的折射率。
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