[发明专利]超导元件结构无效

专利信息
申请号: 200910118659.6 申请日: 2009-02-27
公开(公告)号: CN101819001A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 陈文进;陈志朗;陈坤川 申请(专利权)人: 陈文进;陈志朗;陈坤川
主分类号: F28D15/04 分类号: F28D15/04;F28F21/08;H05K7/20
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种超导元件结构,用于电子元件的散热,该超导元件包括:一壳体,其包括一上板片及一下座,该上板片及该下座的内表面利用静电涂布,使其被覆一层金属薄膜,该上板片及该下座彼此结合形成一容置空间;复数多个烧结柱体,置于该容置空间内,该烧结柱体利用金属粉末冲压,进而烧结成柱体状,该柱体表面具有毛细结构。本发明由工作流体于容置空间内流动,配合毛细结构形成二相流循环,相比先前技术,能大幅效提升整体超导元件的热传导性及散热性,同时也减少生产成本及提升经济效益。
搜索关键词: 超导 元件 结构
【主权项】:
一种超导元件结构,用于电子元件的散热,其特征在于,该超导元件结构包括:一壳体,其包括一上板片及一下座,该上板片及该下座的内表面利用静电涂布被覆一层金属薄膜,该上板片及该下座彼此结合形成一容置空间;多个烧结柱体,置于该容置空间内,该烧结柱体利用金属粉末冲压,进而烧结成柱体状,该柱体表面具有毛细结构;以及一工作流体,填注于该容置空间中,并可于该容置空间内流动,遇热产生相变。
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