[发明专利]制备硼硅酸盐玻璃体上的耐擦拭抗反射层的方法

摘要

本发明公开了一种制备硼硅酸盐玻璃体上的耐擦拭抗反射层的方法，其中，使用组成为1～6重量％的HCl、0.5～7重量％的SiO₂溶胶(固含量)、0.5～5重量％的H₂O、85～98重量％的易挥发水溶性有机溶剂的涂覆溶液。适合于涂覆的玻璃包含(基于氧化物以重量％计)63～76的SiO₂，＞11～20的B₂O₃，1～9的Al₂O₃，3～12的碱金属氧化物，0～10的碱土金属氧化物，0～2的ZnO，0～5的TiO₂，0～1的ZrO₂，0～1的Nb₂O₅和0～1的WO₃。

主权项

1. 一种制备硼硅酸盐玻璃体上的牢固附着和耐擦拭、含多孔SiO2的抗反射层的方法，其特征在于以下步骤：-用涂覆溶液润湿待涂覆的玻璃体，和-干燥并烘焙涂层，其中所述玻璃体包含(基于氧化物以重量％计)：63～76的 SiO2>11～20的 B2O31～9的 Al2O33～12的 碱金属氧化物0～10的 碱土金属氧化物0～2的 ZnO0～5的 TiO20～1的 ZrO20～1的 Nb2O50～1的 WO3，且所述涂覆溶液包含：1. 0～6.0重量％的HCl0. 5～7.0重量％的SiO2溶胶(固含量)0. 5～5重量％的水85～98重量％的易挥发水溶性有机溶剂。