[发明专利]溅射涂覆装置无效
| 申请号： | 200910126776.7 | 申请日： | 2009-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN101503793A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 安德里亚斯·鲁普;拉尔夫·林德伯格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵 飞;南 霆 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 溅射涂覆装置包括具有内部空间的真空室。内部空间由室壁限定。靶单元成直线设置在真空涂覆室内部。靶单元设置为相对于真空室和衬底的传送路径t是可倾斜的。靶单元包括靶和壳体。壳体连接到靶并限定出靶单元的内部空间。在内部空间，设置了很多元件，如磁轭和磁体系统的组合、磁轭驱动机构、冷却系统、用于为溅射处理提供能量的电流供应装置等。在靶单元的操作过程中，磁轭和磁体系统的组合是在线性路径上是可动的。在壳体外部，设置在靶单元后面的真空室的室壁内的真空泵用于产生真空压力以使溅射涂覆处理可行。在壳体的内部空间内，可获得另一种显著更高的压力。因此，相对于壳体的外部，壳体提供了壳体的内部空间的真空密封。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 | ||
【主权项】：
1、一种溅射涂覆装置(1)包括：至少一个包括壁的涂覆室(3)；和设置在所述涂覆室(3)内的至少一个第一靶单元(9)，其中所述靶单元(9)包括至少一个基本平面的溅射靶(6)，以及其中，所述靶单元(9)包括限定出了所述靶单元(9)的内部空间(10’)的壳体(10)，其特征在于所述靶单元(9)设置为与面对衬底(2)的涂覆表面的所述涂覆室(3)的壁(3c)间具有距离，使得所述壳体(10)和所述涂覆室(3)的壁之间在所述壳体(10)的后面具有自由空间。
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