[发明专利]电子束描绘装置和电子束描绘方法

摘要

提供一种电子束描绘装置和电子束描绘方法，该电子束描绘装置在用背面保持掩膜的情况下，不增大焦点调整机构的焦点高度的调整范围，而能够校正掩膜的高度偏移的影响。在XY平台(3)上避开已固定了标记台(4)的区域来搭载Z平台(5)，在设置在Z平台(5)上的保持机构(6)的上表面载置掩膜(M)。使焦点调整机构的调整范围的中间值与标记台(4)的高度一致。测定标记台(4)的高度，并且测定掩膜(M)的多个测定点的高度，移动Z平台(5)，使这些测定点的高度中的最高值与最低值的中间值的高度与标记台(4)的高度一致。

主权项

1、一种电子束描绘装置，具有用背面保持掩膜的保持机构，利用电子束照射单元向保持在该保持机构上的掩膜表面照射电子束来描绘期望的图案，其特征在于，具有：XY平台，能在与上述电子束的光轴方向正交的方向上移动；标记台，固定在该XY平台上，用于调整电子束的焦点；Z平台，避开固定有该标记台的区域而搭载在上述XY平台上，能在上述光轴方向上移动；及测定单元，测定上述标记台的高度以及载置在上述保持机构上的掩膜的高度，上述电子束照射单元具有焦点调整机构，该焦点调整机构使上述电子束的焦点高度在规定的调整范围内可变，该规定范围的中间值与上述标记台的高度一致，上述掩膜保持机构具有：差分计算单元，设置在上述Z平台上，计算由上述高度测定单元测定出的上述标记台的高度与载置在上述保持机构上的掩膜的高度之间的差分；及Z平台控制单元，基于计算出的差分信息使Z平台进行移动，以使上述掩膜的高度与上述标记台的高度一致，在上述差分计算单元的计算中使用的上述掩膜的高度是多个测定点的高度中的最高值与最低值的中间值，该多个测定点的高度是由上述高度测定单元测定掩膜上的多个测定点而得到的。