[发明专利]传输机构以及具有该传输机构的湿制程设备无效
| 申请号： | 200910130647.5 | 申请日： | 2009-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101847593A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 谢明达;徐瑞富;杨俊良;张圣正 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L21/00;H01L21/20;H01L21/311;H01L21/3213;C23C16/00 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 中国台湾新竹市新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 传输机构以及具有该传输机构的湿制程设备，用以传送基板。该传输机构包括上压机构、下压机构和调节结构。该上压机构包括上压滚轮、上固定座和调整装置，上固定座用以固定该上压滚轮；调整装置用以调整该上压滚轮的高度和压力，该调整装置固定于该上固定座，并具有与该上压滚轮的轴承接触的压制块、设置于该压制块上的至少一弹性件以及用于调整该弹性件弹力的压力调整元件。该下压机构包括下压滚轮和下固定座，该下压滚轮与该上压滚轮配合夹制并传输该基板；该下固定座用以固定该下压滚轮。该调节结构连接该上固定座和该下固定座，并用以调节该上固定座和该下固定座之间的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 传输 机构 以及 具有 湿制程 设备 | ||
【主权项】：
一种传输机构，用以传送基板，其特征在于该传输机构包括上压机构，该上压机构包括：上压滚轮；上固定座，用以固定该上压滚轮；以及调整装置，用以调整该上压滚轮的高度和压力，该调整装置固定于该上固定座，并具有与该上压滚轮的轴承接触的压制块、设置于该压制块上的至少一弹性件以及用于调整该弹性件弹力的压力调整元件；下压机构，该下压机构包括：下压滚轮，与该上压滚轮配合夹制并传输该基板；以及下固定座，用以固定该下压滚轮；以及调节结构，该调节结构连接该上固定座和该下固定座，并用以调节该上固定座和该下固定座之间的高度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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