[发明专利]环烷醇和/或环烷酮的制备方法无效
| 申请号： | 200910130729.X | 申请日： | 2009-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN101691322A | 公开（公告）日： | 2010-04-07 |
| 发明（设计）人： | 星野正大;渡边宣史;杉田启介 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C29/50 | 分类号： | C07C29/50;C07C29/48;C07C35/08;C07C45/33;C07C45/32;C07C49/403;B01J23/75;B01J21/08;B01J31/28;B01J35/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 段晓玲;韦欣华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及环烷醇和/或环烷酮的制备方法。本发明的目的是提供一种以良好的转化率氧化环烷烃来制备具有良好的选择性系数的环烷醇和/或环烷酮的可行方法。本发明公开了一种制备环烷醇和/或环烷酮的方法，包括在含有至少一种过渡金属并且用胺或氨进行接触处理过的中孔二氧化硅的存在下，用氧气氧化环烷烃。优选的，对通过混合一种含有所述金属的化合物、一种硅的化合物、一种结构导向剂和水所得的晶体用胺和/或氨进行接触处理，然后经焙烧后得到中孔二氧化硅，然后在该中孔二氧化硅的存在下用氧气氧化环烷烃。 | ||
| 搜索关键词： | 环烷 醇和 制备 方法 | ||
【主权项】：
制备环烷醇和/或环烷酮的方法，包括在含有至少一种过渡金属并且用胺和/或氨进行过接触处理的中孔二氧化硅的存在下，用氧气氧化环烷烃。
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