[发明专利]反应溅射系统

摘要

本发明提供了一种反应溅射系统，包括真空腔室、与真空腔室相连的反应气体管路、载气管路和气体控制系统。在反应气体管路上安装有由电信号控制开度的阀门。气体控制系统包括由管路与真空腔室连通的气体成分分析仪、计算机和控制器。气体成分分析仪在计算机控制下测算出反应气体分压值，并进一步换成与其成正比的电信号值。控制器内设定有与标准的反应气体分压值相对应的电信号值，再结合从气体成分分析仪接收的电信号值计算得出电信号的偏移量，根据计算结果调节阀门的开度，从而使真空腔室内的反应气体分压值保持在设定值水平。使用本发明的系统能大幅度提高溅射工艺的稳定性及可重复性；同时能溅射出传统设备无法制备的金属化合物薄膜。

主权项

一种反应溅射系统，包括真空腔室(5)、设置在该真空腔室(5)内底部中央位置的晶圆载台(7)以及分别与所述真空腔室(5)连通的反应气体管路(10)、载气管路(9)和气体控制系统，其特征在于，在所述反应气体管路(10)上安装有由电信号控制开度的阀门(16)，所述气体控制系统包括气体成分分析仪(13)、分别与气体成分分析仪(13)相连的计算机(14)和控制器(15)，所述气体成分分析仪(13)与所述真空腔室(5)之间连通有气体采样管路(12)，所述真空腔室(5)内由反应气体和载气组成的混合气体经气体采样管路(12)进入到所述气体成分分析仪(13)内，所述气体成分分析仪(13)在计算机(14)控制下测算出反应气体分压值，进一步将该反应气体分压值转换成与其成正比的电信号值，输出到控制器；所述控制器(15)内设定有与理想的反应气体分压值相对应的电信号值，所述控制器(15)根据该设定的电信号值和从所述气体成分分析仪(13)接收的电信号值计算得出电信号的偏移量，并进一步根据计算结果调节所述阀门(16)的开度，从而使所述真空腔室(5)内的反应气体分压值保持在所述设定值水平。