[发明专利]抛光状态监测装置和抛光装置以及方法

摘要

一种抛光状态监测装置，包括：光源；发光单元，设置在具有抛光表面的抛光台中，用于将光从光源施加到工件之被抛光的表面；光接收单元，设置在抛光台中，用于接收来自工件表面的反射光；分光镜单元，用于将由光接收单元接收的反射光分开成多条光线；多个光接收元件，用于检测由分光镜单元分开的多条光线和累积检测的多条光线；光谱数据产生器，用于读取由光接收元件累积的信息，以及产生反射光的光谱数据；控制单元，用于控制光接收元件，以在抛光台旋转时执行采样处理；以及处理器，用于根据包括乘法的计算来计算工件表面的预定特征值。

主权项

1、一种抛光状态监测装置，包括：光源；发光单元，设置在具有抛光表面的抛光台中，用于将光从所述光源施加到工件之被抛光的表面；光接收单元，设置在所述抛光台中，用于接收来自所述工件之所述表面的反射光；分光镜单元，用于将由所述光接收单元接收的反射光分开成具有各自波长的多条光线；多个光接收元件，用于检测由所述分光镜单元分开的多条光线，以及累积检测的多条光线；光谱数据产生器，用于读取由所述多个光接收元件累积的信息，以及产生所述反射光的光谱数据；控制单元，用于控制所述多个光接收元件，以在所述抛光台旋转的同时，在预定的定时执行采样处理；以及处理器，用于根据包括乘法的计算来计算所述工件之所述表面的预定特征值，其中所述乘法是将由所述光谱数据产生器产生的光谱数据的波长分量与一组预定的加权系数相乘。