[发明专利]一种高温云纹光栅的制作方法无效

专利信息
申请号: 200910135728.4 申请日: 2009-04-27
公开(公告)号: CN101539642A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 朱建国;谢惠民;唐敏锦 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 代理人: 邸更岩
地址: 100084北京市100*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种高温云纹光栅的制作方法,属于光学器件制造、光测力学领域。将试件基底材料抛光、清洗、烘干后,在试件基体材料表面沉积一层在高温下抗氧化的金属膜;根据模板上云纹光栅尺寸的特点和光刻胶的型号调整温度、压力、时间等参数,将模板的表面图案转印到基底材料的光刻胶上;经过干法或湿法刻蚀,在基底材料上再镀一层在高温下抗氧化的金属膜,去除光刻胶后,可制成高温云纹光栅。所述的高温为为800~1000℃范围;所述的试件基底材料采用耐高温的金属合金或非金属材料。光栅制作的原理清晰,且操作方便、效率高、成本底,可批量生产。
搜索关键词: 一种 高温 光栅 制作方法
【主权项】:
1.一种高温云纹光栅的制作方法,其特征在于该方法包括如下步骤:1)将试件基底材料抛光,清洗、烘干后,在试件基体材料表面沉积一层在高温下抗氧化的金属膜;2)将光刻胶旋涂在试件基底材料上,烘干定胶后,将正交云纹光栅模板覆盖在烘干定胶后基底材料上;通过温控设备升温,达到光刻胶的转变温度Tg以上后施加压力,压力的大小p和保持的时间t根据模板云纹光栅尺寸和光刻胶的型号确定;将温度降低至室温后卸压,将云纹光栅模板与试件基底材料分离;此时,云纹光栅模板表面的图案转印到了试件基底材料表面的光刻胶上;3)采用干法或者湿法对试件基底材料进行刻蚀;在试件基底材料表面再镀一层在高温下抗氧化的金属膜,方法与第一层金属膜相同;去除基底材料上的光刻胶,最终制成在高温下使用的云纹光栅。所述的高温为800~1000℃范围。
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