[发明专利]高真空熔炼、吸铸可控性试样制备用的吸铸嘴无效
| 申请号： | 200910135808.X | 申请日： | 2009-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN101537482A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 谢克非;姚可夫;刘伟刚;黄天佑 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B22D18/06 | 分类号： | B22D18/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084北京市100*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及高真空熔炼、吸铸可控性试样制备用的吸铸嘴。属于非晶态材料试样制备技术领域。其特征在于，在所述吸铸嘴开有一个贯通该吸铸嘴的中心孔，正对坩埚底部被熔化熔液吸铸口处的上段所述中心孔的直径小于下段所述中心孔的直径，该上段所述中心孔的轴向长度小于下段所述中心孔的轴向长度，从而构成一个所述放大式的铸嘴通道，所述铸嘴通道上、下二段中心孔的直径和长度足以使所述吸铸嘴在负压作用下能使所述被熔的熔液流经该铸嘴通道后能吸铸成试棒。该吸铸嘴能使试棒的成型率从10％-20％提高到95％以上，而且易于实现。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 熔炼 可控性 试样 制备 吸铸嘴 | ||
【主权项】：
1、高真空熔炼、吸铸可控性试样制备用的吸铸嘴，其特征在于，在所述吸铸嘴开有一个贯通该吸铸嘴的中心孔，正对坩埚底部被熔化熔液吸铸口处的上段所述中心孔的直径小于下段所述中心孔的直径，该上段所述中心孔的轴向长度小于下段所述中心孔的轴向长度，从而构成一个所述放大式的铸嘴通道，所述铸嘴通道上、下二段中心孔的直径和长度足以使所述吸铸嘴在负压作用下能使所述被熔的熔液流经该铸嘴通道后能吸铸成试棒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学，未经清华大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910135808.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
