[发明专利]柔性光波导及其制备方法无效
| 申请号： | 200910137519.3 | 申请日： | 2009-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN101571610A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 牛渡刚真;平野光树;田尻浩三;牧野朋未 | 申请（专利权）人： | 日立电线株式会社;株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/13 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种柔性光波导及其简便的制备方法，该柔性光波导能不使用粘接剂等而直接在基板上形成光波导薄膜，而且包括基板在内的光波导薄膜的柔性以及基板与光波导薄膜之间的粘接性良好。该柔性光波导具有依次形成于基板上的下部覆盖层、中心层、以及上部覆盖层，而且用于形成下部覆盖层的基板表面的算术平均粗糙度Ra为0.03μm以上。该柔性光波导通过对形成下部覆盖层的基板的表面实施利用磨石进行的物理处理或利用电晕放电进行的化学处理后，在该基板上依次形成下部覆盖层、中心层、以及上部覆盖层来制备。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性 波导 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种柔性光波导，该柔性光波导具有形成于基板上的下部覆盖层、形成于该下部覆盖层上的中心层、以及以包埋该中心层的方式形成于该下部覆盖层和该中心层上的上部覆盖层，其特征在于，用于形成该下部覆盖层的该基板表面的算术平均粗糙度Ra为0.03μm以上。
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