[发明专利]抗反射材料、光学元件、显示器件及压模的制造方法和使用了压模的抗反射材料的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910138080.6 申请日: 2005-12-01
公开(公告)号: CN101566698A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 田口登喜生;植木俊;中村浩三;津田和彦 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B5/04;G02F1/1335;G02F1/153;G02F1/167
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰;王小衡
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的抗反射材料是在基板的表面上在x方向和y方向形成其周期比入射光的最短波长小的凹凸图形的抗反射材料,当假定入射光的最短波长为λmin、入射光的最大入射角为θimax、入射介质的折射率为ni、凹凸图形中的x方向的周期为Λx以及y方向的周期为Λy时,满足下式(1),[数学式1]Λx,y/λmin<1/(ni+ni·sinθimax)…(1)由此,能够在宽的波段内抑制短波长光成分的衍射光的发生。
搜索关键词: 反射 材料 光学 元件 显示 器件 制造 方法 使用
【主权项】:
1.一种抗反射材料,在表面上具有微细凹凸结构,其特征在于,上述微细凹凸结构包含多个微细凸部,当假定上述多个微细凸部之中相互邻接的任意的凸部之间的距离为P、入射光的最短波长为λmin、上述入射光的入射角为θi、入射介质的折射率为ni、上述抗反射材料的折射率为ns时,具有大于0度小于90度范围内的θi满足下式(1’)[数学式1’]Pλmin<1ni+ni·sinθi...(1,)]]>当假定上述凹凸图形的高度方向的坐标轴为h轴、上述凹凸图形中的凸部的最高点为h=d、上述凹凸图形中的凹部的最低点为h=0时,用h的函数表示的有效折射率neff(h)满足下式(1b)[数学式1b]上述有效折射率neff(h)与用下式(1c)[数学式1c]Neff(h)={(neff(h=0)-neff(h=d))/d}×h+neff(h=0)表示的函数Neff(h)至少在三点上相交,其中,符号表示约等于。
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