[发明专利]抗反射材料、光学元件、显示器件及压模的制造方法和使用了压模的抗反射材料的制造方法有效
申请号: | 200910138082.5 | 申请日: | 2005-12-01 |
公开(公告)号: | CN101566699A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 田口登喜生;植木俊;中村浩三;津田和彦 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;C25D11/04;C23F1/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘宗杰;王小衡 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的抗反射材料是在基板的表面上在x方向和y方向形成其周期比入射光的最短波长小的凹凸图形的抗反射材料,当假定入射光的最短波长为λmin、入射光的最大入射角为θimax、入射介质的折射率为ni、凹凸图形中的x方向的周期为Λx以及y方向的周期为Λy时,满足下式(1),[数学式1]Λx,y/λmin<1/(ni+ni·sinθimax) …(1)由此,能够在宽的波段内抑制短波长光成分的衍射光的发生。 | ||
搜索关键词: | 反射 材料 光学 元件 显示 器件 制造 方法 使用 | ||
【主权项】:
1.一种压模的制造方法,这是在表面上具有微细凹凸结构的压模的制造方法,其特征在于,包含下述工序:(a)准备在表面上包括至少含铝95质量%以上的铝层的基体材料的工序;(b)通过对上述铝层局部地进行阳极氧化,形成具有多个微细凹部的多孔氧化铝层的工序;以及(c)通过使上述多孔氧化铝层与氧化铝的刻蚀剂接触,使上述多孔氧化铝层的上述多个微细凹部扩大的工序,通过交替地多次进行上述工序(b)和(c),在上述多孔氧化铝层上形成各自具有台阶状的侧面的多个微细凹部。
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