[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910139109.2 | 申请日： | 2004-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN101872129A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | H·范桑坦;A·Y·科勒斯奈彻科 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。本发明还公开了用于浸入式光刻投影装置的液体供给系统，其中在投影系统、隔离件和衬底之间界定出空间。隔离件没有被密封，使得在使用中允许浸液从该空间和在隔离件和衬底之间流出。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：支撑结构，其构造成可固定图案形成装置，所述图案形成装置构造成可在光束的横截面上施加图案；衬底台，其构造成可固定衬底；投影系统，其构造成可将图案化光束投射到衬底的目标部分上；液体供给系统，其构造成可将浸液提供到所述衬底和所述投影系统之间的空间中，所述液体供给系统包括设置在所述空间的边界上的至少一个浸液入口，其中所述浸液基本上没有被限制在所述空间中从而所述浸液可以流出所述空间。
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