[发明专利]可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法无效
| 申请号： | 200910139292.6 | 申请日： | 2009-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN101905200A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 萧章能;黄胜崑;蔡国龙 | 申请（专利权）人： | 岱棱科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B05B5/12 | 分类号： | B05B5/12;B05B7/04;C09D201/00;C09D5/00;C09D5/29 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其是利用湿式涂布的方式而在一可挠性高分子基材的第一表面上涂布一光泽层，并在光泽层上或可挠性高分子基材的第二表面上进一步涂布一颜色保护层；据此，利用光泽层增加金属质感及光泽，使所述可挠性高分子基材具备低金属屏蔽效应或光遮蔽性，并令所需范围内的光、电磁波等的穿透性佳，以避免传输与接收的品质受到干扰。 | ||
| 搜索关键词： | 可挠性 高分子 基材 上具高 金属 光泽 阻抗 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述制造方法为：步骤一：是先取一预设尺寸的可挠性高分子基材；步骤二：于可挠性高分子基材的任意一表面上涂布一层金属光泽层涂料以形成光泽层；步骤三：于可挠性高分子基材未涂布形成光泽层的表面上，涂布颜色保护层涂料以形成颜色保护层。
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