[发明专利]二氧化硅玻璃坩埚和用二氧化硅玻璃坩埚提拉单晶硅的方法无效
| 申请号： | 200910139507.4 | 申请日： | 2009-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101619485A | 公开（公告）日： | 2010-01-06 |
| 发明（设计）人： | 岸弘史 | 申请（专利权）人： | 日本特级石英株式会社 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本秋田县秋*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在用于提拉硅晶体的二氧化硅玻璃坩埚中，在所述坩埚的完整圆周上在同一高度位置处所测量的气泡含量、壁厚度和透射率中每一者的圆周最大容差不大于6％。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 玻璃 坩埚 单晶硅 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于提拉硅晶体的二氧化硅玻璃坩埚，其特征在于在所述坩埚的完整圆周上在同一高度位置处所测量的气泡含量、壁厚度和透射率中每一者的圆周最大容差不大于6％。
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