[发明专利]光阻组合物及图案形成方法有效
| 申请号： | 200910140187.4 | 申请日： | 2009-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN101625524A | 公开（公告）日： | 2010-01-13 |
| 发明（设计）人： | 渡边聪;田中启顺;渡边武;金生刚 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 菅兴成;吴小瑛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是一种化学增幅型光阻组合物，其至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物，但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。由此，可提供一种化学增幅光阻材料等的光阻材料、及使用此材料的图案形成方法，该光阻材料在用于微加工的微影成像术且特别是使用KrF激光、ArF激光、F2激光、极短紫外线、电子射线、X射线等作为曝光光源的微影术中，可赋予高解像性，同时在基板界面也能赋予良好图案形状。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅型光阻组合物，其特征在于：至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物，但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。
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