[发明专利]多层结构测量方法和多层结构测量设备

摘要

本发明公开了一种多层结构测量方法和多层结构测量设备。根据本发明的断层图像测量方法包括：第一步，从波数谱计算与每个层厚度的光学距离对应的信息；第二步，从与每个层厚度的光学距离对应的信息分离并提取每层的信息；第三步，分别将每层的信息再转换为波数谱；第四步，从第三步的结果获得干涉波数；第五步，从干涉波数和每层的光学距离计算干涉级；和第六步，利用干涉级为整数的事实计算每层的光学距离。从而，当使用离散傅立叶变换时，层的测量精确性得到改进。

主权项

1、一种设备中的多层结构测量方法，所述设备包括：光源；光学系统，其将来自所述光源的光引向待观察的多层结构的对象，同时将来自所述待观察对象的回光引向检测位置；分光仪，其被置于所述检测位置处，用于检测入射在其上的光的波数谱；和分析单元，其从检测的波数谱测量所述待观察对象的多层结构；所述方法包括：第一步，从所述波数谱计算与每个层厚度的光学距离对应的信息；第二步，从与所述每个层厚度的光学距离对应的信息分离并提取与每层的光学距离对应的信息；第三步，分别将与所述每层的光学距离对应的信息再转换为波数谱；第四步，从所述第三步的结果获得干涉发生的波数或波长；第五步，从在所述第四步中获得的所述波数或波长和所述每层的光学距离计算干涉级；和第六步，将在所述第五步中获得的所述干涉级近似为最接近的整数，并从如此近似的所述干涉级和干涉发生的所述波数或波长计算每层的光学距离。