[发明专利]背面照明成像器件及其制造方法、半导体基片和成像设备有效

专利信息
申请号: 200910140704.8 申请日: 2007-09-20
公开(公告)号: CN101552280A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 宇家真司;永濑正规;中桥洋介;蜂谷透 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/84;H01L21/265;H04N5/335
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 陈 源;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供背面照明成像器件及其制造方法、半导体基片和成像设备。一种背面照明成像器件通过从p型基片的背面照射光以基于光而在基片中产生电荷、并且从所述基片的正面读取电荷来进行成像。该器件包括:半导体基片中的第一半导体层,所述第一半导体层具有第一电导率并且累积电荷;处在半导体基片背面内侧并且具有与第一电导率类型相反的第二电导率的第二半导体层;以及处在第一半导体层和第二半导体层之间的第三半导体层,所述第三半导体层具有1.0×1014/cm3或更低的杂质浓度。
搜索关键词: 背面 照明 成像 器件 及其 制造 方法 半导体 设备
【主权项】:
1.一种背面照明成像器件,其通过从半导体基片的背面照射光以基于光而在半导体基片中产生电荷、并且从所述半导体基片的正面读取电荷来进行成像,所述器件包括:半导体基片中的第一半导体层,所述第一半导体层具有第一电导率并且累积电荷;处在半导体基片背面内侧并且具有与第一电导率类型相反的第二电导率的第二半导体层;以及处在第一半导体层和第二半导体层之间的第三半导体层,所述第三半导体层具有1.0×1014/cm3或更低的杂质浓度。
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