[发明专利]平面陶瓷片组件及其制备方法、载体层组件及其制备方法、烃氧化方法和陶瓷膜叠层有效

专利信息
申请号: 200910142692.2 申请日: 2004-03-19
公开(公告)号: CN101579644A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: M·F·卡罗兰;P·N·德耶;M·A·威尔逊;T·R·奥赫恩;K·E·克奈德;D·彼得森;C·M·陈;K·G·拉克斯 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: B01J35/10 分类号: B01J35/10;B01J12/00;B01D71/02;B01D69/04;C01B3/38;C10L3/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 韦欣华
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及平面陶瓷片组件及其制备方法、载体层组件及其制备方法、烃氧化方法和陶瓷膜叠层。所述陶瓷片组件中使用了一种平面陶瓷膜组件,其包含混合-传导多组分金属氧化物材料致密层其中,致密层具有第一面和第二面,与致密层的第一面接触的混合-传导多组分金属氧化物材料多孔层,与致密层的第二面接触的陶瓷通道载体层。
搜索关键词: 平面 陶瓷 组件 及其 制备 方法 载体 氧化 陶瓷膜
【主权项】:
1.一种平面陶瓷片组件,包含:(a)具有第一面和第二面的平面陶瓷通道载体层;(b)具有内侧和外侧的混合-传导多组分金属氧化物材料的第一致密层,其中,内侧部分与陶瓷通道载体层的第一面接触;(c)包含多孔混合-传导多组分金属氧化物材料且具有内侧和外侧的第一外载体层,其中,内侧部分与第一致密层的外侧接触;(d)具有内侧和外侧的混合-传导多组分金属氧化物材料的第二致密层,其中,内侧部分与陶瓷通道载体层的第二面接触;和(e)包含多孔混合-传导多组分金属氧化物材料且具有内侧和外侧的第二外载体层,其中,内侧部分与第二致密层的外侧接触。
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