[发明专利]石英部件的洗净方法和洗净系统无效
| 申请号： | 200910145230.6 | 申请日： | 2009-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN101591146A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 加藤寿;冈部庸之;织户康一;千叶贵司 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;B08B9/02;B08B9/00;B08B3/08;B08B3/04 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙 淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种除去附着在选自半导体处理用的立式热处理装置的反应管、晶舟、保温筒中的石英部件上的金属污染物质的方法。该方法包括：得到未安装于上述立式热处理装置的状态的上述石英部件的工序；接着利用稀氢氟酸对上述石英部件进行洗净的稀氢氟酸洗净工序；接着利用纯水对上述石英部件进行洗净的第一纯水洗净工序；接着利用盐酸对上述石英部件进行洗净的盐酸洗净工序；和接着利用纯水对上述石英部件进行洗净的第二纯水洗净工序。 | ||
| 搜索关键词： | 石英 部件 洗净 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种除去金属污染物质的方法，该金属污染物质附着在选自半导体处理用的立式热处理装置的反应管、晶舟、保温筒中的石英部件上，其特征在于，包括：得到未安装于所述立式热处理装置的状态的所述石英部件的工序；接着利用稀氢氟酸对所述石英部件进行洗净的稀氢氟酸洗净工序；接着利用纯水对所述石英部件进行洗净的第一纯水洗净工序；接着利用盐酸对所述石英部件进行洗净的盐酸洗净工序；和接着利用纯水对所述石英部件进行洗净的第二纯水洗净工序。
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