[发明专利]用于评估具有重复图形的目标物体的方法和系统无效
| 申请号： | 200910146037.4 | 申请日： | 2009-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN101614953A | 公开（公告）日： | 2009-12-30 |
| 发明（设计）人： | 肖穆里克·曼根;迈克尔·本-伊谢;里奥·肖瓦尔 | 申请（专利权）人： | 以色列商·应用材料以色列公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;王金宝 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 一种用于评估光刻掩模中放置误差的方法，所述方法包括：提供或接收表示基准元件的一对基准点之间的距离的基准结果；对于来自与所述光刻掩模的多个分离元件相关的多对点的每对点，测量所述对点之间的距离，以便提供多个测量结果；其中测量结果与所述基准结果之间的差异表示相对放置误差；以及响应所述基准结果与每个测量结果之间的关系确定相对放置误差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 评估 具有 重复 图形 目标 物体 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于评估光刻掩模内的放置误差的方法，所述方法包含：、提供或接收表示基准元件的一对基准点之间的距离的基准结果；对于来自与所述光刻掩模的多个分离元件相关的多对点的每对点，测量所述对点之间的距离，以便提供多个测量结果；其中测量结果与所述基准结果之间的差异表示相对放置误差；以及响应所述基准结果与每个测量结果之间的关系确定相对放置误差。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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