[发明专利]光刻设备和方法有效
| 申请号： | 200910147537.X | 申请日： | 2009-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN101609268A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | F·J·J·杰森;S·兰德柯尔;Y·考克;M·贝克尔斯;I·A·J·托马斯;M·A·C·马兰达 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种浸没类型的光刻设备。在所述设备中，多个加热和/或冷却装置被提供在投影系统的最终元件的邻近处，例如液体处理系统的阻挡构件上。所述加热和/或冷却装置可被用于例如控制在投影系统的最终元件中的温度梯度以控制其中的像差。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影设备，包括：投影系统，配置成将图案化的束投影到衬底上，所述投影系统具有最终元件；液体处理系统，配置成用于将浸没液体供给至所述最终元件和衬底之间的空间；热耦合至所述最终元件的多个独立可控的加热和/或冷却装置，所述加热和/或冷却装置被间隔开；和控制系统，耦合至所述多个加热和/或冷却装置，且配置成分离地控制这些加热和/或冷却装置以在所述最终元件中保持需要的空间温度分布。
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