[发明专利]图案化的方法

摘要

本发明是有关于一种图案化的方法。首先，在基底上形成材料层。然后，在材料层上形成灰化层。接着，在灰化层上形成图案化转移层，其中图案化转移层具有小于曝光极限尺寸的关键尺寸。之后，以图案化转移层或图案化转移层的补偿层为掩模，来图案化灰化层，以形成图案化灰化层。继之，以图案化灰化层为掩模，来图案化材料层。藉由本发明可以在维持元件密度的情况下制作较宽的字线，避免短沟道效应，提升元件的效能。另外，此方法可应用到制作较小的接触窗或介层窗，在不需更动现行设备及光刻胶的情况下，提高图案密度高达两倍。此外，本发明提供的图案化的方法可以制作自对准的双镶嵌开口，其制造工艺裕度大且可以轻易达到双镶嵌开口的叠对规格。

主权项

一种图案化的方法，其特征在于其包括以下步骤：在一基底上形成一材料层；在该材料层上形成一第一灰化层；在该第一灰化层上形成一图案化第一转移层，其中该图案化第一转移层具有小于曝光极限尺寸的关键尺寸；以该图案化第一转移层或该图案化第一转移层的一补偿层为掩模，来图案化该第一灰化层，以形成一图案化第一灰化层；以及以该图案化第一灰化层为掩模，来图案化该材料层。