[发明专利]声波装置,制作声波装置和传输设备的方法无效
| 申请号： | 200910151476.4 | 申请日： | 2009-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN101635562A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 原基扬;西原时弘;谷口真司;坂下武;横山刚;岩城匡郁;上田政则 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | H03H9/205 | 分类号： | H03H9/205;H03H3/02 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵 飞;南 霆 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种声波装置，制作声波装置和传输设备的方法。一种声波装置包括衬底和形成在衬底上的多个压电薄膜谐振器。多个压电薄膜谐振器中的每个包括设置在衬底上的下电极，设置在下电极上的压电薄膜，设置在压电薄膜上并且经过压电薄膜与下电极相对的上电极。每个压电薄膜谐振器由衬底部分地支持并且在衬底上延伸以在衬底与每个下电极之间形成空腔。空腔在多个压电薄膜谐振器下方连续地延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 声波 装置 制作 传输 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种声波装置，包括：衬底；和形成在所述衬底上的多个压电薄膜谐振器，所述多个压电薄膜谐振器中的每个包括：设置在所述衬底上的下电极，设置在所述下电极上的压电薄膜，设置在所述压电薄膜上并且经过所述压电薄膜与所述下电极相对的上电极，每个所述压电薄膜谐振器由所述衬底部分地支持并且在所述衬底上延伸以在所述衬底与每个所述下电极之间形成空腔，所述空腔在所述多个压电薄膜谐振器下方连续地延伸。
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