[发明专利]光学片用基材片有效
| 申请号： | 200910151979.1 | 申请日： | 2009-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN101630029A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 长村惠弌 | 申请（专利权）人： | 株式会社JIRO企业策划 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02B5/04;G02B3/00;G02B5/08;G02F1/1335;B32B7/12 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是提供一种防粘性优异、具有较高的总透光率、能有效抑制干涉现象及亮度不均，进而具有较高的经济性及薄膜性的光学片用基材片。本发明的光学片用基材片是具备透明基材膜、及积层于基材膜的一面上的防粘层，其特征在于：防粘层含有填料及其树脂制粘合剂，防粘层的平坦部的平均厚度为50nm以上、150nm以下，填料的平均粒径为70nm以上、200nm以下。填料的平均粒径可大于防粘层的平坦部的平均厚度。防粘层中填料的含量较佳为20质量％以上、50质量％以下。粘合剂聚合物可具有三维交联结构。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 基材 | ||
【主权项】：
1.一种光学片用基材片，其具备透明基材膜、及积层于所述基材膜的一面的防粘层，其特征在于：所述防粘层含有填料及其树脂制粘合剂，所述防粘层的平坦部的平均厚度为50nm以上、150nm以下，所述填料的平均粒径为70nm以上、200nm以下。
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