[发明专利]稳定脱硫石膏中Hg(Ⅱ)的方法无效
申请号: | 200910152897.9 | 申请日: | 2009-09-18 |
公开(公告)号: | CN101664589A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 汤婷媚;徐新华;沃静静;徐江 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | A62D3/00 | 分类号: | A62D3/00;B01D53/64;B01D53/80 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 杜 军 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及稳定脱硫石膏中Hg(II)的方法。目前湿式石灰石-石膏法脱硫产生的脱硫石膏中存在Hg等重金属,在石膏的加工、使用过程中会排放到环境中,存在安全隐患。本发明方法是在湿式石灰石-石膏法脱硫产生的脱硫石膏浆液中按Hg2+的含量加入汞离子稳定剂,通过汞离子稳定剂与脱硫石膏浆液中的Hg2+作用,形成稳定的汞离子螯合物,使汞离子稳定存在于形成的脱硫石膏中。所述的汞离子稳定剂为高分子重金属捕集沉淀剂DTCR或有机硫TMT。本发明方法可以大大减少脱硫石膏中Hg2+的浓度,有效解决石膏在加工、使用过程中的二次污染问题。 | ||
搜索关键词: | 稳定 脱硫 石膏 hg 方法 | ||
【主权项】:
1、稳定脱硫石膏中Hg(II)的方法,其特征在于:该方法是在湿式石灰石-石膏法脱硫产生的脱硫石膏浆液中加入汞离子稳定剂,通过汞离子稳定剂与脱硫石膏浆液中的Hg2+作用,形成稳定的汞离子螯合物,使汞离子稳定存在于形成的脱硫石膏中,具体方法是:按照脱硫石膏浆液中Hg2+的含量加入汞离子稳定剂;所述的汞离子稳定剂为高分子重金属捕集沉淀剂DTCR,反应式为加入的高分子重金属捕集沉淀剂DTCR与脱硫石膏浆液中Hg2+的质量比为1~2∶1;或有机硫TMT,反应式为加入的有机硫TMT与脱硫石膏浆液中Hg2+的质量比为0.6~1∶1。
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