[发明专利]太阳能电池硅片清洗剂及其使用方法有效
| 申请号： | 200910157191.1 | 申请日： | 2009-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN101735891A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 俞相明;黄燕;陈国其 | 申请（专利权）人： | 浙江向日葵光能科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/22 | 分类号： | C11D1/22;C11D3/37;C11D3/08;C11D3/04;C11D3/06 |
| 代理公司： | 绍兴市越兴专利事务所 33220 | 代理人： | 张谦 |
| 地址： | 312071 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种太阳能电池硅片清洗剂及其使用方法，属于太阳能电池生产技术领域，由如下体积比的组分配制而成：DZ1∶DZ2∶水＝5～15∶1～10∶100；其中DZ1由如下摩尔比的组分组成：烷基苯磺酸钠∶五水偏硅酸钠∶焦磷酸四钾∶聚乙烯醇∶聚乙二醇∶水＝5∶7∶3∶7∶6∶72；DZ2由如下摩尔比的组分组成：氢氧化铵∶双氧水∶水＝5∶15∶80。本发明使用方法如下：将切割后的单晶硅片放在清洗剂中进行超声波清洗，其清洗时间为5分钟-20分钟，清洗温度为40℃-70℃。本发明清洗时间、清洗温度与清洗剂中的DZ1、DZ2的浓度相协调，以达到有效去除由线切割单晶硅而产生的表面油脂及硅片内部金属杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 太阳能电池 硅片 洗剂 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种太阳能电池硅片清洗剂，其特征在于由如下体积比的组分配制而成：DZ1∶DZ2∶水＝5～15∶1～10∶100；其中DZ1由如下摩尔比的组分组成：烷基苯磺酸钠∶五水偏硅酸钠∶焦磷酸四钾∶聚乙烯醇∶聚乙二醇∶水＝5∶7∶3∶7∶6∶72；DZ2由如下摩尔比的组分组成：氢氧化铵∶双氧水∶水＝5∶15∶80。
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