[发明专利]一种用于制备单晶硅绒面的酸腐蚀溶液及其使用方法有效
| 申请号： | 200910157192.6 | 申请日： | 2009-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN101717937A | 公开（公告）日： | 2010-06-02 |
| 发明（设计）人： | 丁国军;黄燕;赵明 | 申请（专利权）人： | 浙江向日葵光能科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/24 | 分类号： | C23F1/24 |
| 代理公司： | 绍兴市越兴专利事务所 33220 | 代理人： | 张谦 |
| 地址： | 312071 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制备太阳能电池用单晶硅绒面的酸腐蚀溶液及其使用方法，属于太阳能电池制备技术领域，由氧化剂和氢氟酸配制而成，氧化剂为硝酸钾或硝酸铵，氢氟酸为氟化铵。使用方法为：将切割后的单晶硅片放在酸腐蚀溶液中进行腐蚀反应，反应时间为30秒-15分钟，反应温度为-5℃-25℃。本发明的反应时间、酸腐蚀溶液的温度与酸腐蚀溶液中氧化剂和氢氟酸的浓度相协调，以达到去除由线切割单晶硅而产生损伤层的目的，近而提高电池光电转化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 单晶硅 酸腐 溶液 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种用于制备单晶硅绒面的酸腐蚀溶液，其特征在于：由氧化剂和氢氟酸配制而成，其中氧化剂浓度为1-20摩尔/升，氢氟酸浓度为0.1-10摩尔/升，且氧化剂为硝酸钾或硝酸铵，氢氟酸为氟化铵。
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