[发明专利]掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法有效
申请号: | 200910158613.7 | 申请日: | 2009-07-07 |
公开(公告)号: | CN101639624A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 每田繁;大塚久利 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;C03B20/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李 帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法,该石英玻璃元件具有反射至多70nm波长的EUV光的表面,其中该表面中的折射率分布在该元件的中心80%区域内仅具有一个极点。该掺杂二氧化钛的石英玻璃元件具有高精度水平的表面且因此可形成为平整度和热膨胀性能得到改善的EUV光刻法光掩模衬底。该石英玻璃元件的制备方法包括:提供掺杂二氧化钛的石英玻璃坯锭;在空气中于700-1300℃下将该坯锭保持1-200小时以退火;以1-20℃/h的速率将该坯锭缓慢冷却至500℃;将该坯锭置于在炉子中旋转的成型坩埚中,所述炉子的温度分布具有在1700℃下至少1.5℃/cm的温度梯度;在该坩埚中热加工该掺杂二氧化钛的石英玻璃。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 氧化 石英玻璃 元件 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.掺杂二氧化钛的石英玻璃元件,其具有反射至多70nm波长的EUV光的表面,其中所述表面中的折射率分布在该元件的中心80%区域内仅具有一个极点。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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