[发明专利]投影机有效
| 申请号： | 200910159739.6 | 申请日： | 2007-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN101592853A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 西田和弘;石桥治 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G03B21/20;G02B27/28;G02B27/10;F21V7/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 投影机具备均匀照明光学系统(41)。均匀照明光学系统(41)具备通过多个第1透镜(4121)将光束分割为多束部分光束的第1透镜阵列(412)、具有多个第2透镜(4131)的第2透镜阵列(413)和使光束的偏振方向一致为大致1种的偏振变换元件(414)。偏振变换元件(414)具备在第1方向具有较长方向的偏振分离层(4141)、沿大致正交于第1方向的第2方向(B)与偏振分离层交替配置的反射层(4142)和对入射的偏振光的偏振方向进行变换的相位差层(4144)。第1透镜(4121)在第1方向的焦点位置设定于第2透镜阵列(413)附近；第2方向(B)的焦点位置设定于偏振变换元件(414)附近。 | ||
| 搜索关键词： | 投影机 | ||
【主权项】：
1.一种投影机，其特征在于具备：光源，相应于图像信息对从前述光源所射出的光束进行调制的光调制装置，在正交于从前述光源所射出的光束的光轴的面内具有多个第1透镜的第1透镜阵列，具有对应于前述第1透镜阵列的前述多个第1透镜的多个第2透镜的第2透镜阵列，和配置于前述第1透镜阵列的光束射出侧的偏振变换元件，前述偏振变换元件，具备：偏振分离层，反射层，和配置于与前述偏振分离层及前述反射层中的任一方相对应的位置的相位差层，前述第1透镜具有在第1方向的第1焦点位置及在第2方向的第2焦点位置，前述第1焦点位置在从前述第1透镜所射出的光束的光轴方向比前述偏振变换元件要接近前述第2透镜阵列，前述第2焦点位置在从前述第1透镜所射出的光束的光轴方向比前述第2透镜阵列要接近前述偏振变换元件，前述第1方向是，在与从前述光源所射出的光束的光轴正交的面内，前述偏振分离层长度较长的方向，前述第2方向是，分别正交于从前述光源所射出的光束的光轴及前述第1方向的方向，前述偏振分离层及前述反射层在前述第2方向交替排列。
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