[发明专利]低反射膜有效
| 申请号： | 200910160718.6 | 申请日： | 2009-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN101858994A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 崔光辉;李文馥;徐正泰;严相烈 | 申请（专利权）人： | 东丽先端素材株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B32B7/02;B32B27/20;B32B27/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及低反射膜。更具体地，本发明提供包括在基底膜上的高折射率的硬涂覆层和低折射率层这两层结构的低反射膜。通过降低硬涂覆层和低折射率层的表面粗糙度，与常规的低反射膜相比，本发明的低反射膜改善了表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力。为此，根据本发明的低反射膜的特征在于，其设有至少在基底膜(10)的一侧上顺次设置的高折射率的硬涂覆层(20)和低折射率层(30)，其中低折射率层(30)的表面具有算术平均粗糙度为0.0001μm～0.005μm的细小的凸出和凹入部分。低折射率层(30)的特征在于其包括3～15重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 | ||
【主权项】：
低反射膜，其特征在于至少在基底膜(10)的一侧上顺次设置高折射率的硬涂覆层(20)和低折射率层(30)，其中所述低折射率层(30)的表面具有算术平均粗糙度(Ra)为0.0001μm～0.005μm的细小的凸出和凹入部分。
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