[发明专利]含有卤素含氧酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物有效
| 申请号： | 200910166654.0 | 申请日： | 2004-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101833251A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 许建斌 | 申请（专利权）人： | 马林克罗特贝克公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;C11D7/50;C11D7/54;C11D7/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 曹立莉 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明通过包含氢卤酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物提供了用于清洗微电子基板的微电子清洗组合物，尤其是用于微电子基板并且对微电子基板以及镀Al或Al(Cu)的基板和先进的互连技术具有改进的相容性的清洗组合物，所述微电子基板的特征在于二氧化硅、敏感的低-κ或高-κ电介质并镀铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡和其它金属。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 卤素 含氧酸 及其 衍生物 微电子 清洗 组合 | ||
【主权项】：
用于从微电子基板上清洗光致抗蚀剂或残余物的方法，该方法包括将基板与清洗组合物接触足够的时间以从基板上清洗光致抗蚀剂或残余物，其中所述清洗组合物包含：(a)0.001至30％重量的氧化剂，其选自烷基亚氯酸盐、烷基次氯酸盐、亚氯酸四烷基铵、次氯酸四烷基铵、取代的亚氯酸三烷基铵和取代的次氯酸三烷基铵，其中所述氧化剂提供0.001至30％的可用卤素，和(b)组分(a)的溶剂，和，任选的如下组分中的一种或多种：(c)不产生铵的碱，(d)最多30％重量的酸，(e)金属螯合剂或络合剂，(f)增强清洗性能的添加剂，(g)金属腐蚀抑制剂，(h)不产生铵的氟化物，和(i)表面活性剂；条件为当氧化剂组分(a)是烷基次氯酸盐时，组分(b)溶剂不是酰胺、砜、环丁烯砜、硒砜或饱和的醇溶剂。
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