[发明专利]金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置有效
| 申请号： | 200910166892.1 | 申请日： | 2009-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN101649448A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 范多望;范多进;孔令刚;令晓明 | 申请（专利权）人： | 兰州大成自动化工程有限公司;兰州大成真空科技有限公司;常州大成绿色镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 兰州振华专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张 真 |
| 地址： | 730070*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，2-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)；1-5个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；各真空室与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强，工艺重复性好、生产效率高适合工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 金属薄板 连续 进行 表面 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
1.一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，2-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)；1-5个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；各真空室设置与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。
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