[发明专利]射线照相装置和射线照相方法有效
| 申请号： | 200910167450.9 | 申请日： | 2009-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101664314A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 大田恭义 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈 平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种射线照相装置和射线照相方法，该射线照相装置基于辐照面积和图像数据发生器的放射线检测面积之间的比较结果来控制被试者被放射线的辐照，其中辐照面积是基于光圈的开口面积计算的，图像数据发生器检测透射通过被试者的放射线并且产生图像数据。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 照相 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种射线照相装置，所述射线照相装置包括：辐照单元，其用放射线辐照被试者；光圈，其调节从所述辐照单元向所述被试者辐照的所述放射线的辐照范围；光圈控制器，其控制所述光圈的开口面积；辐照面积计算单元，其基于所述光圈的所述开口面积计算所述辐照范围的辐照面积；和控制器，其基于所述辐照面积与图像数据发生器的放射线的检测面积之间的比较结果来控制所述被试者由所述辐照单元用所述放射线的辐照，所述图像数据发生器检测已经透射通过所述被试者的放射线并且产生图像数据。
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