[发明专利]一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法有效

专利信息
申请号: 200910169510.0 申请日: 2009-09-08
公开(公告)号: CN102011109A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 徐恒泳;曾高峰;史蕾;安德里斯·歌德巴赫 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: C23C18/48 分类号: C23C18/48
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周长兴
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种制备钯合金膜的化学共沉积方法,是在化学镀金属钯的过程中将掺杂金属的络合物溶液添加到金属钯的镀液中,而不是在化学镀之前混合。本发明通过控制共沉积镀液中易于被优先还原的金属离子的浓度,从而实现钯和掺入金属同时且均匀地沉积的制备钯合金膜。利用本方法能够一次制备出致密且具有精确目标组成的钯合金膜,有效降低合金膜制备的劳动强度,显著地提高了钯银合金膜制备的成功率和重复率;该方法所得钯合金膜能够成数量级地减少高温合金化时间,节省电能、高纯氢和实验时间,同时也将显著延长合金膜的实际服役时间。
搜索关键词: 一种 制备 金属 合金 化学 沉积 方法
【主权项】:
一种制备钯合金膜的化学共沉积方法,在化学镀金属钯的过程中将掺杂金属的络合物溶液添加到金属钯的镀液中。
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