[发明专利]一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法有效
申请号: | 200910169510.0 | 申请日: | 2009-09-08 |
公开(公告)号: | CN102011109A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 徐恒泳;曾高峰;史蕾;安德里斯·歌德巴赫 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | C23C18/48 | 分类号: | C23C18/48 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种制备钯合金膜的化学共沉积方法,是在化学镀金属钯的过程中将掺杂金属的络合物溶液添加到金属钯的镀液中,而不是在化学镀之前混合。本发明通过控制共沉积镀液中易于被优先还原的金属离子的浓度,从而实现钯和掺入金属同时且均匀地沉积的制备钯合金膜。利用本方法能够一次制备出致密且具有精确目标组成的钯合金膜,有效降低合金膜制备的劳动强度,显著地提高了钯银合金膜制备的成功率和重复率;该方法所得钯合金膜能够成数量级地减少高温合金化时间,节省电能、高纯氢和实验时间,同时也将显著延长合金膜的实际服役时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 金属 合金 化学 沉积 方法 | ||
【主权项】:
一种制备钯合金膜的化学共沉积方法,在化学镀金属钯的过程中将掺杂金属的络合物溶液添加到金属钯的镀液中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910169510.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理