[发明专利]成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法有效
申请号: | 200910170392.5 | 申请日: | 2006-03-14 |
公开(公告)号: | CN101660127A | 公开(公告)日: | 2010-03-03 |
发明(设计)人: | 永田浩;新垣良憲 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/56;H01F7/02;H01F41/02 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本神奈川*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法,提供一种真空处理装置,具有:处理室,其可真空排气;加热手段,其加热所述处理室内;保持手段,其在所述处理室内分别保持散块体金属蒸发材料和被处理物;在所述处理室的减压状态下使所述加热手段动作,将处理室加热到至少使金属蒸发材料蒸发的温度在处理室内形成金属蒸汽气氛,所述蒸汽气氛中的金属原子附着到被加热的被处理物表面。所述金属蒸发材料至少包含Dy、Tb中的一种,所述被处理物为具有规定形状的铁-硼-稀土系烧结磁铁,可控制该烧结磁铁的加热温度使所述烧结磁铁表面附着的金属原子扩散到其晶界中。保持所述烧结磁铁及金属蒸发材料的保持部件由不与Dy或Tb反应的材料构成。 | ||
搜索关键词: | 方法 装置 以及 永磁 制造 | ||
【主权项】:
1.一种真空处理装置,其特征在于,具有:处理室,其可真空排气;加热手段,其加热所述处理室内;保持手段,其在所述处理室内分别保持散块体金属蒸发材料和被处理物;在所述处理室的减压状态下使所述加热手段动作,将处理室加热到至少使金属蒸发材料蒸发的温度在处理室内形成金属蒸汽气氛,所述蒸汽气氛中的金属原子附着到被加热的被处理物表面。
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