[发明专利]成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910170392.5 申请日: 2006-03-14
公开(公告)号: CN101660127A 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 永田浩;新垣良憲 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/56;H01F7/02;H01F41/02
代理公司: 北京英特普罗知识产权代理有限公司 代理人: 齐永红
地址: 日本神奈川*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法,提供一种真空处理装置,具有:处理室,其可真空排气;加热手段,其加热所述处理室内;保持手段,其在所述处理室内分别保持散块体金属蒸发材料和被处理物;在所述处理室的减压状态下使所述加热手段动作,将处理室加热到至少使金属蒸发材料蒸发的温度在处理室内形成金属蒸汽气氛,所述蒸汽气氛中的金属原子附着到被加热的被处理物表面。所述金属蒸发材料至少包含Dy、Tb中的一种,所述被处理物为具有规定形状的铁-硼-稀土系烧结磁铁,可控制该烧结磁铁的加热温度使所述烧结磁铁表面附着的金属原子扩散到其晶界中。保持所述烧结磁铁及金属蒸发材料的保持部件由不与Dy或Tb反应的材料构成。
搜索关键词: 方法 装置 以及 永磁 制造
【主权项】:
1.一种真空处理装置,其特征在于,具有:处理室,其可真空排气;加热手段,其加热所述处理室内;保持手段,其在所述处理室内分别保持散块体金属蒸发材料和被处理物;在所述处理室的减压状态下使所述加热手段动作,将处理室加热到至少使金属蒸发材料蒸发的温度在处理室内形成金属蒸汽气氛,所述蒸汽气氛中的金属原子附着到被加热的被处理物表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科,未经株式会社爱发科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910170392.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top