[发明专利]用于真空成形基片的真空成形装置和方法有效
| 申请号： | 200910171852.6 | 申请日： | 2009-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101930168A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 白承俊;金泰完;崔世振 | 申请（专利权）人： | 株式会社米纽塔技术 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 谢顺星 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于在用树脂涂布的基片上形成光学图案的真空成形装置以及真空成形方法。所述装置包括具有侧壁的真空室本体，以及分别用于密封所述侧壁的顶部和底部的盖子和底板，其中，所述真空室本体内部配置有用于将三维图案转印到基片上的成形模具，以及能上升和下降的成形模具框，用于固定所述成形模具的边缘。由于所述成形模具框的下降，由所述盖子，侧壁和底板密封的空间被分隔为上腔和下腔。尽管扩大了基片的尺寸，本发明甚至适用于三维图案，例如复杂形式的光学图案，且能够预防在基片上所形成的图案中未成形区域的发生，或者缺陷的发生，例如气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 成形 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在涂有树脂的基片上形成光学图案的真空成形装置，所述装置包括具有侧壁的真空室本体，以及分别用于密封所述侧壁的顶部和底部的盖子和底板，其中，所述真空室本体内部配置有用于将光学图案转印到基片上的成形模具，以及能上升和下降的成形模具框，用于固定所述成形模具的边缘，且由于所述成形模具框的下降，由所述盖子、侧壁和底板密封的空间被分隔为上腔和下腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社米纽塔技术，未经株式会社米纽塔技术许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910171852.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电子照相感光体、图像形成设备和处理盒
- 下一篇：聚焦控制电路
