[发明专利]将多种反应气体依次向基板供给的成膜装置

摘要

本发明提供一种将多种反应气体依次向基板供给的成膜装置，在真空容器内供给第1及第2反应气体来形成薄膜，其具有：旋转台；第1反应气体供给部及第2反应气体供给部，其分别在以旋转中心为圆心的第1角度位置和第2角度位置沿径向延伸；第1分离气体供给部，其设置在第1角度位置和第2角度位置之间的第3角度位置；第1空间，其在包含第1角度位置的区域具有第1高度；第2空间，其在包含第2角度位置的区域具有第2高度；第3空间，其在包含第3角度位置的区域具有低于第1高度和第2高度的高度；加热装置，其加热第1分离气体。

主权项

1.一种成膜装置，在真空容器内，将基板依次暴露于包含第1反应气体和第2反应气体的至少两种反应气体中，进行成膜，其特征在于，具有：真空容器，其具有顶板；旋转台，其以能绕旋转中心旋转的方式设置在所述真空容器内，具有用于载置基板的基板载置部；第1反应气体供给部和第2反应气体供给部，其分别在以所述旋转中心为圆心的第1角度位置和第2角度位置处沿径向延伸，以供给所述第1反应气体和所述第2反应气体；第1分离气体供给部，其在位于所述第1角度位置和所述第2角度位置之间的第3角度位置处沿径向延伸，以供给用以将所述第1反应气体和所述第2反应气体分离开的第1分离气体；所述顶板的第1下表面区域，其是包含所述第1角度位置的区域的至少一部分，距所述旋转台的高度为第1高度，从而在所述旋转台上侧形成具有所述第1高度的第1空间；所述顶板的第2下表面区域，其是包含所述第2角度位置的区域的至少一部分，距所述旋转台的高度为第2高度，从而在所述旋转台上侧形成具有所述第2高度的第2空间；所述顶板的第3下表面区域，其是包含所述第3角度位置的区域的至少一部分，距所述旋转台的高度为低于所述第1高度和所述第2高度的第3高度，从而在所述旋转台上侧形成具有所述第3高度的第3空间；加热装置，其对所述第1分离气体进行加热；第2分离气体供给部，其在包含所述旋转中心的中心部区域，供给用以将所述第1反应气体和所述第2反应气体分离开的第2分离气体；排气口，其将所述第1反应气体和第2反应气体，连同向所述第3空间两侧喷出的第1分离气体和从所述中心部区域喷出的所述第2分离气体一起排出。