[发明专利]显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备有效
| 申请号： | 200910172157.1 | 申请日： | 2009-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN101673076A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | 阿多洋辅;阿南严也 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/08 | 分类号： | G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00;G03G15/01 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;闫俊萍 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供显影辊、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。显影辊具有芯轴、弹性层和作为表面层的覆盖层。所述覆盖层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜。在所述氧化硅膜中，通过使用高频辉光放电光发射表面分析方法检测，硅、氧、碳和氢的元素总数相对于全部检测元素数的比例为90％以上。所述氧化硅膜具有化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的丰度比(O/Si)为0.65以上至1.95以下，和化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的丰度比(C/Si)为0.05以上至1.65以下，以及具有沿覆盖层厚度方向的(C/Si)的最大值和最小值的比例为1.50至33.00。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 电子 照相 处理 图像 形成 设备 | ||
【主权项】：
1.一种显影辊，其包括芯轴、弹性层和起到表面层作用的覆盖层，其中所述覆盖层包括含化学键合至硅原子的碳原子的氧化硅膜；和在所述氧化硅膜中，通过使用高频辉光放电光发射表面分析方法检测，硅原子、氧原子、碳原子和氢原子的存在元素总数相对于全部检测元素数的比例为90％以上，和所述氧化硅膜具有化学键合至硅原子的氧原子与硅原子的丰度比(O/Si)为0.65以上至1.95以下，和化学键合至硅原子的碳原子与硅原子的丰度比(C/Si)为0.05以上至1.65以下，以及具有沿覆盖层厚度方向的丰度比(C/Si)的最大值和最小值的比例为1.5至33.0。
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