[发明专利]清洗装置有效
| 申请号： | 200910173152.0 | 申请日： | 2009-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101733258A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 吴泰英;李殷河 | 申请（专利权）人： | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B7/04;F26B15/12;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洗装置，其能够防止由于基板下垂所造成的对基板的损伤。所述清洗装置包括：等离子体照射部，其被提供有来自基板装载部的基板以通过向基板照射等离子体从基板去除污物；清污部，其被提供有来自等离子体照射部的基板以去除留在基板上的污物；最后清洗部，其被提供有来自清污部的基板以清洗基板；烘干部，其被提供有来自最后清洗部的基板以烘干基板；以及基板卸载部，其被提供有来自烘干部的基板以卸载基板，其中等离子体照射部包括向基板照射等离子体的等离子体照射单元，以及使所述基板保持处于浮动状态的浮动单元。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种清洗装置，该清洗装置包括：等离子体照射部，其被提供有来自基板装载部的基板以通过向所述基板照射等离子体从所述基板进一步去除污物；清污部，其被提供有来自所述等离子体照射部的所述基板以去除留在所述基板上的污物；最后清洗部，其被提供有来自所述清污部的基板以清洗所述基板；烘干部，其被提供有来自所述最后清洗部的基板以烘干所述基板；以及基板卸载部，其被提供有来自所述烘干部的基板以卸载所述基板，其中，所述等离子体照射部包括向所述基板照射等离子体的等离子体照射单元，以及使所述基板保持处于浮动状态的浮动单元。
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