[发明专利]用于校正粒子光学装置中的畸变的方法无效
| 申请号： | 200910173281.X | 申请日： | 2009-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN101685754A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | A·F·德琼;U·卢肯;P·C·蒂梅杰;H·N·斯林杰兰 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | H01J37/26 | 分类号： | H01J37/26;H01J37/252;H01J37/244 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王 岳;丁永凡 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于校正粒子光学装置中的畸变的方法。本发明涉及一种用于校正由TEM的投影系统(106)引起的畸变的方法。本领域技术人员知道，畸变可能限制TEM的分辨率，特别是当利用X射线断层摄影术对特征进行3D重建时。而且，当在TEM中利用应变分析时，畸变会限制应变的检测。为此，本发明公开了一种装配有多极(152)的检测器，该多极以抵消投影系统引起的畸变的方式使TEM的图像歪曲。该检测器还可以包括用于检测电子的CCD或者荧光屏(151)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校正 粒子 光学 装置 中的 畸变 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于校正粒子光学装置的畸变的方法，该粒子光学装置包括：·粒子源(101)，用于生成粒子束，·物平面，其上可放置将要成像的物体(111)，·聚光系统(104)，用于利用粒子束照射物平面，·投影系统(106)，用于通过将透过物体的粒子成像到像平面上来形成物平面的放大图像，该投影系统引起畸变，以及·检测器(150)，用于检测该放大图像，该方法包括：·形成畸变被至少部分校正的图像，其特征在于·该检测器包括多极(152)，并且·按照至少部分校正放大图像中的畸变的方式激励多极。
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